近期，來(lái)自上海金橋出口加工區(qū)（南區(qū)）的中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）有限公司傳來(lái)消息，該公司自主研制的5納米等離子體刻蝕機(jī)經(jīng)臺(tái)積電驗(yàn)證，性能優(yōu)良，將用于全球首條5納米制程生產(chǎn)線。這意味著國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備力量正在逐漸壯大。
據(jù)了解，在芯片制造眾多環(huán)節(jié)中，薄膜沉積、光刻和刻蝕是3個(gè)核心環(huán)節(jié)，用于這3個(gè)環(huán)節(jié)的3種設(shè)備合計(jì)占芯片制造生產(chǎn)線設(shè)備投資總額的50%-70%。其中，等離子體刻蝕機(jī)是用來(lái)按光刻機(jī)刻出的電路結(jié)構(gòu)，在硅片上進(jìn)行微觀雕刻，刻出溝槽或接觸孔的設(shè)備?？涛g技術(shù)的高低直接決定了芯片制程的大小，在成本上僅次于光刻。而5納米相當(dāng)于頭發(fā)絲直徑的兩萬(wàn)分之一，是目前芯片制程工藝最小線寬，對(duì)刻蝕機(jī)的控制精度提出超高要求。
中微半導(dǎo)體聯(lián)合創(chuàng)始人倪圖強(qiáng)表示，中微半導(dǎo)體與泛林、應(yīng)用材料、東京電子、日立4家美日企業(yè)，組成了國(guó)際第一梯隊(duì)，為7納米芯片生產(chǎn)線供應(yīng)刻蝕機(jī)，如今通過(guò)臺(tái)積電驗(yàn)證的5納米刻蝕機(jī)，預(yù)計(jì)能獲得比7納米更大的市場(chǎng)份額。
根據(jù)臺(tái)積電對(duì)外公布的信息，該公司將于2019年進(jìn)行5納米制程試產(chǎn)、預(yù)計(jì)2020年量產(chǎn)。
一位業(yè)內(nèi)人士指出，作為臺(tái)積電長(zhǎng)期穩(wěn)定的設(shè)備供應(yīng)商，中微半導(dǎo)體在臺(tái)積電量產(chǎn)28納米制程時(shí)兩者就已開(kāi)始合作并一直延續(xù)至今。這次5納米生產(chǎn)線將再次采用中微半導(dǎo)體的刻蝕設(shè)備，足見(jiàn)臺(tái)積電對(duì)中微半導(dǎo)體技術(shù)的認(rèn)可。
目前，中微半導(dǎo)體的介質(zhì)刻蝕設(shè)備、硅通孔刻蝕設(shè)備、MOCVD設(shè)備等均已成功進(jìn)入海內(nèi)外重要客戶供應(yīng)體系。在今年年中中微公司對(duì)外發(fā)布的信息中提到，中微通過(guò)創(chuàng)新驅(qū)動(dòng)自主研發(fā)的等離子體刻蝕設(shè)備和硅通孔刻蝕設(shè)備已在國(guó)際主要芯片制造和封測(cè)廠商的生產(chǎn)線上廣泛應(yīng)用于45納米到7納米及更先進(jìn)的加工工藝和最先進(jìn)的封裝工藝。截至今年年中，在亞洲地區(qū)40多條國(guó)際領(lǐng)先的生產(chǎn)線上運(yùn)行的中微反應(yīng)臺(tái)已將近800個(gè)。
有數(shù)據(jù)顯示，第三季度中國(guó)大陸半導(dǎo)體設(shè)備銷售額首次超越韓國(guó)，預(yù)計(jì)明年將成為全球最大半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)，中微半導(dǎo)體也有望迎來(lái)更大的發(fā)展。
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